事件總覽：AI晶片研發分析平台汎銓科技，針對光焱科技發布的聲明，於2026年3月25日正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟，指控光焱科技侵害其「光損偵測裝置」發明專利，並請求停止侵權行為及新台幣2億元之損害賠償。此案已進入司法程序。
📅 汎銓的技術佈局與專利根基
在半導體產業的激烈競爭中，智慧財產權的維護無疑是企業生存與發展的關鍵。汎銓科技，這家長期深耕於半導體先進製程材料分析、AI晶片分析平台及矽光子檢測技術領域的企業，其核心技術皆是投入大量研發資源所累積的成果。其中，「光損偵測裝置」更是汎銓科技的重要關鍵技術之一，不僅已取得台灣、日本及美國的發明專利，更實際應用於矽光子元件的光損量測與定位分析，對於高速光通訊、AI及光電整合等前瞻應用領域，都具備高度的技術價值與產業重要性。這項技術的獨特性與廣泛應用，也正是此次專利爭議的核心。
📅 2026年3月25日：汎銓正式提告光焱
這場備受矚目的專利訴訟，起源於2026年3月25日上午，汎銓科技正式向智慧財產及商業法院提起民事訴訟。汎銓主張，光焱科技股份有限公司侵害了其所擁有的中華民國第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利。汎銓科技不僅要求法院裁定光焱科技停止相關侵權行為，更依法請求新台幣2億元的損害賠償。此舉不僅是汎銓對自身研發成果的強力捍衛，也向業界宣告其對智慧財產權保護的堅定立場。
📅 2026年3月26日：光焱聲明與汎銓的回應
在汎銓科技提起訴訟之後，光焱科技（7728）於2026年3月26日對外發布了相關聲明。對此，汎銓科技基於尊重司法程序的原則，選擇不就個別技術爭議或光焱單方面的說法進行逐一回應。汎銓科技強調，關於雙方技術差異、是否構成專利侵權，以及相關專利權利範圍的認定，均屬專業法律與技術判斷範疇，應回歸智慧財產及商業法院依據具體事證進行審理，這也凸顯了此類高科技專利訴訟的複雜性與專業性。
至今影響與未來展望
這起專利侵權訴訟目前已正式進入司法程序，相關事實與法律爭點將依法由法院審理並作出最終判斷。汎銓科技呼籲相關當事人應以誠實態度面對司法程序，並重申其提起本次訴訟，是基於維護自主研發成果與智慧財產權的正當權益，更是對台灣整體科技產業價值與重要性，以及全體股東與利害關係人負責任的必要行動。此案的進展與最終判決，不僅將影響汎銓與光焱兩家公司的未來營運，更可能為台灣半導體產業在專利保護與公平競爭環境的建立上，樹立新的標竿與最高標準。
