光焱科技近日針對汎銓科技提出的新台幣2億元專利侵權指控，發佈嚴正聲明駁斥，強調雙方在「光損檢測」技術世代上存在顯著差異。光焱指出，其採用高光譜成像技術，與汎銓舊有的金相顯微鏡專利截然不同，並譴責同業企圖壟斷市場之行為，引發業界對專利保護與技術創新平衡的深思。
專利侵權指控與光焱科技的嚴正聲明
汎銓科技日前透過公開資訊觀測站及記者會，單方面宣稱光焱科技侵害其第I870008B號「光損偵測裝置」發明專利，並求償鉅額新台幣2億元。不過，光焱科技對此表示，截至目前為止，公司並未收到任何法院相關訴訟函件。這種在尚未經完整司法程序前，即透過媒體發布資訊的行為，不僅可能阻礙產業創新，也讓光焱科技深感遺憾，並對此類競爭手段予以嚴正譴責。
說真的，專利制度的本意是保障特定的技術實施手段，而非將「光損檢測」這類通用詞彙註冊為商標來買斷市場。光焱科技進一步澄清，不能因為汎銓針對其自有技術申請了專利，就無限上綱認定市場上所有具備「光損檢測」功能的設備皆侵害其權益，這顯然是對專利權的過度延伸與誤解。
兩代技術的顯著鴻溝：金相顯微鏡對決高光譜成像
光焱科技指出，雙方在檢測技術的世代上存在著顯著落差。汎銓科技所宣稱的專利，核心是採用傳統的「金相顯微鏡」組成方案進行光損量測，這就好比用類比電視的標準，來衡量一台4K智慧電視的技術，兩者根本不在同一個維度，技術差距可謂天壤之別。
相較之下，光焱科技的核心技術是基於次世代、更先進的「高光譜成像技術感測模組」。這項創新技術可高度整合於客戶端的系統，例如探針台、電測機，直接進行矽光子光學檢測。有趣的是，「光損檢測」僅是光焱在矽光子晶片檢測多功能模組中的其中一項應用，顯示其技術涵蓋範圍更廣、功能更全面。
光焱科技強硬表示：「拿之前的金相顯微鏡專利，來告自家新世代的高光譜影像感測模組，在技術上是完全站不住腳的。」這句話一針見血地點出了技術演進帶來的專利適用性問題。
專利舉發案的真相與市場競爭的省思
汎銓科技在記者會上曾高調宣稱其專利挺過17項舉發而維持有效，光焱科技對此也提出反擊。經檢視公開資料，該專利舉發案之所以不成立，主因在於舉發人當時提出的證據是更先進的檢測技術與零組件，主管機關因此認定這些與汎銓採用的傳統金相顯微鏡技術「無關」。這恰好證明了汎銓專利所保障的僅是其自身傳統技術，進而明確證實光焱採用的高光譜成像系統與汎銓的技術截然不同，自然毫無侵權之疑慮。
這種策略性地利用專利進行市場阻礙，不禁讓人思考：專利制度的本意是鼓勵創新，而非成為限制新技術發展的工具。尤其在半導體與矽光子這類高速發展的產業領域，技術迭代迅速，過時專利能否適用於新世代技術，是業界必須正視的課題，也是影響產業競爭格局的關鍵。
展望與影響：捍衛創新與產業發展
光焱科技深耕光學與光電子晶片檢測領域已長達16年，面對此次同業的不實指控與行銷操作，公司強調其營運、業務及設備出貨均正常進行，財務業務皆不受影響。他們後續將積極配合司法程序進行答辯，以捍衛公司、客戶及全體股東的合法權益。這場專利爭議，不僅是兩家公司之間的法律攻防，更觸及了半導體產業在快速變革中，如何平衡專利保護與技術創新的深層議題，值得所有利害關係人密切關注。
- 光焱科技營運狀況良好，業務與設備出貨未受影響。
- 公司將積極參與司法程序，全力捍衛自身與股東權益。
- 此專利爭議突顯了半導體產業在專利保護與技術創新之間的挑戰。
